一·设备用途：

1.提纯金属、半导体、有机和无机的化学材料；

2.区熔致匀（使一种欲掺入的杂质十分均匀地分布在整个单晶

体中）

3.焊接和测量液体中的扩散率等。

二·设备优点：

1·区熔加热炉采用往复区熔的方式，闭环温度控制，可靠的控制熔区的宽度问题；生长室的设计成功解决生长室的污染问题，

2·将加热及保温材料均设置在生长腔室外部，采用高纯石英作为腔室，同时抽真空；将流动高纯氢气通入腔室，去除腔室中的微量氧，解决氧化的问题；

3·开发高柔性的控制软件，采用触摸屏进行操作，任意设置区熔的温度，区熔的速度及次数。

三·主要技术参数

1.最高加热温度：℃使用温度：-℃

2.设备功率：25Kw±10%三相v50Hz（三相五线制）

3.感应电源功率：15Kw±10%三相v50Hz（三相五线制）4.冷态极限真空度：≤6.7×10-4Pa

5·石墨舟尺寸：Ф70*mm（内径*长度，半圆柱）

6·石英管（腔室）尺寸：*1（根据实际情况做调整）

7·加热方式：高频感应加热

9·区熔行程及速度：位移行程≦mm

慢速：1-10mm/h（伺服控制）精度0.01mm

快速：50-mm/min（伺服控制）可根据客户需求设计

10.炉内充气压力：≤0.03MPa（氩气）

11·充气系统：自动充放气

12.区熔温区：1温区

13.石英管法兰连接方式：真空水冷密封法兰形式，留KF25真空接口，法兰材质不锈钢

14.控制方式：触摸屏+plc

四·结构类型：

设备采用一个感应电源控制区域内的感应线圈，通过线圈水平移动的的方式实现温区内物料的局部熔化和驱赶提纯的目的。石英管两端真空法兰密封，带炉门，方便装卸石墨舟或者其他材质料舟。感应线圈布置固定在底部的滑动线性模组上，通过伺服电机传动机构控制，实现感应线圈的前后移动，实现物料的区熔提纯。石英管可选配布置红外测温装置，实现物料的实时测温。设备一体化布局，侧部安装有高频感应电源和控制系统，带触摸屏和plc控制，操作简单方便，带数据和工艺存储、下载、保存功能。

真空系统有VRD-24直连泵+JTFB-分子泵+高真空阀门+复合真空计组成高真空系统，真空系统安装在炉架内，通过波纹管与石英管固定法兰链接，实现腔室的真空获取。

水冷系统

配备冷水机作为循环水源。水冷系统由循环冷水机、进出水总管道、阀门及各支路组成。冷却水由冷水机进水总管进入后，经过各支管送到炉门、炉体、炉底、水冷电极、真空泵、冷阱等这些需要冷却水的地方，然后汇总到出水总管排出。总进水管路设有电接点压力表，具有断水声光报警并切断电源功能。各支路水管采用透明塑胶软管，通过不锈钢接头联接进出水总管道及设备各进出水口。每路冷却水进水管都装有手动阀门，可手动调节水流量大小。

一体化设计区熔炉配置高真空真空度可达-4配置点火装置可充还原性气体伺服控制区熔机构

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